全自动硅片显影机适用产业：半导体照明（LED）、半导体材料、MEMS，集成电路、半导体分立器件、有机发光二级管（OLED）等；控制模式：手动控制模式、自动控制模式；制程
喷淋式废气处理设备此装置是一个AB两单元模,组组成的湿法化学喷淋清洗系统，此系统进行除三氯化硼、四氯化硅、氯气、氨气和硅烷（SiH4）的及金属有机物化学物质也被分解
自动供液系统（CDS)主要用途：本设备主要用于湿法蚀刻清洗等制程工序需要使用的蚀刻液集中,进行配送，经管道送至设备；具有自动化程度高、配比精确、操,作简便等特点，
单晶圆湿法清洗机※控制模式:手动控制模式自动控制模式；※设备形式:室内放置型；※制程应用：蚀刻（微蚀刻）制程；去光阻清洗制程；去蜡（胶）清洗制程；精密清洗制程
去光阻清洗机控制模式：手动控制模式、自动控制模式；适用对象：用来将4、5、6、8英寸硅晶片化学腐蚀和清洗；蚀刻液在线降温系统(0℃以下,±0.5℃)。选配模块:蚀刻液循
扩散前清洗台控制模式:手动控制模式自动控制模式；设备形式:室内放置型；制程应用：蚀刻（微蚀刻）制程；去光阻清洗制程；去蜡（胶）清洗制程；精密清洗制程；光罩去光
