全自动硅片显影机
适用产业：半导体照明（LED）、半导体材料、MEMS，集成电路、半导体分立器件、有机发光二级管（OLED）等； 控制模式：手动控制模式、自动控制模式； 制程应用：湿法清洗显影制程； 适用对象：2-12inch硅片 、蓝宝石基片，2-4 cassette/ Batch，25 Pcs/cassette； 选配模块：显影液恒温系统；显影液循环过滤系统；全自动供液系统；消防系统；可结合客户端通讯协定资料储存、CIM系统、资料分析储存建立管理； 功能描述：动作程序要求：原点上料，按启动，机械手旋转搬运cassette至显影槽（POS.1）液体内，上下运动、频率、时间可调，漂（显影液）时间到，旋转搬运cassette至QDR槽（POS.2）内冲水漂洗，静止等待（或上下运动、频率可调）时间可调，清洗时间到，报警提示（此时花篮在水内不升起）按复位，机械手旋转到QDR槽（POS.2）上方后最后取cassette， 整体布置：设备前侧上料,前侧下料;本体上面装有控制面板，每个工艺过程可独立控制；设备采用密封结构，配有可拆卸的活动门； 本体后（上）方顶部设有风道； 本体下方为管路区； 结构构造： 设备主体； 传送系统； 混液系统； 循环系统； 过滤系统； 排风系统； 电气控制系统；设备制造：北京华林嘉业科技有限公司（CGB）.
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